NILaustria

Media Coverage

International:

Austrian:

"Winzige Löcher verbessern Handys"-Die Presse am Sonntag 16.09.2012 pdf
Factory Magazin - Thema des Monats 04.2012 - factorynet.at - epaper
österreichischer Nanoaktionsplan
"Vorsprung in den Materialwissenschaften" - Austria-Forum
"Besser beschleunigen mit Hai-Schuppen" - derstandard.at 20.7.2011 - pdf
Internationale Top-WissenschafterInnen beim AIT - Seminarreihe beim AIT - presseaussendung link
"Organische Chips für Transistoren" - Forschungsbeilage von "Die Presse" November 2010
"Geprägt, gedruckt und schnell geschaltet" - derstandard.at 17.11.2010
"Automatisierungstechnik-Student erhöht Speicherkapazität von Festplatten" - FH Wels News 21.1.2010
"Innviertler Student erhöht die Speicherkapazität von Festplatten" OÖN 20091217
"Festplattenspeicher - Innovative Diplomarbeit" Factory 17.12.2009 (link)
Oberösterreichische Nachrichten 20090318
(referencing to Oberösterreichische Nachrichten 20090318)
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"Winzig klein gedruckt" - Die Presse, Forschungsbeilage, 26.8.2009, p 32 - 35
research - Forschungsjournal der TU Graz - Sonderausgabe 12/2008 - link - link2
auf der Homepage der ESG Nano - link
"Kein Problem für große Flächen" p 21 in Nanofacts September 2008 (as e-paper here)
"Ein Stempel für Computerchips" StartBlatt August 2008
"Power mit Nano" elektronik report juli/august 2008 p 6 (pdf)

Events

EV Group wins Frost & Sullivan?s European Nanoimprint Technology Product Innovation Award - link
NNT 2010, Copenhagen: 1st Prize, Best Poster Award: Ursula Palfinger: nanoimprinted Compelmentary Organic Inverters and Ring Oscillators picture
Informationstagung Mikroelektronik ME 2010: Best Paper Award Nanoelectronics: Elisabeth Lausecker: UV nanoimprint lithography for advanced micro- and nanostructuring picture
BACUS 2009: Third Best Presentation: Elmar Platzgummer, Stefan Cernusca, Christof klein, Samuel Kvasnica, Bernd Sonalkar, Hans Loeschner: eMET: Development of a 50kEV electron projection muli-beam Mask Exposure Tool for the 16nm hp Technolgy Node and below
PECS 2009: Second Best Oral Presentation: Iris Bergmair: Fabrication of Large Area Negative Index Materials by Nanoimprint Lithography
BACUS 2008: Second Best Oral Presentation Award: E. Platzgummer, H. Loeschner, G. Gross: Results obtained with the CHARPAN Engineering Tool and prospect of the Ion Mask Exposure Tool (iMET)
BACUS 2008: Best Poster Award: Florian Letzkus, Joerg Butschke, Mathias Irmscher, Michael Jurisch, and Wolfram Klingler (IMS Chips (Germany)), Elmar Platzgummer, Christof Klein, Hans Loeschner, and Reinhard Springer (IMS Nanofabrication AG (Austria)): Deflecton unit for multi-beam mask making

BACUS 2008: Second Best Poster Award: Joerg Butschke, Mathias Irmscher, Holger Sailer, Lorenz Nedelmann, and Marcus Pritschow IMS Chips (Germany), Hans Loeschner and Elmar Platzgummer (IMS Nanofabrication AG (Austria)): Mask patterning for the 22nm node using a proton multi-beam projection pattern generator

CEA-Leti to Implement Multiple EV Group Systems on its New 300-mm Fab Line Dedicated to 3D Integration - link
EV Group wins Frost & Sullivan?s European Nanoimprint Technology Product Innovation Award - link
EV Group Breaks through Resolution Barrier with Introduction of Soft UV Nanoimprint Lithography Technology - link - EVG-Pressrelease October 2010
Ein Stempel für Computerchips TU Vienna 2008-08-18
"Forschung im Kleinen mit riesiger Wirkung" press release of the FFG/ Austrian Nanoinitiative 14.4.2008 (pdf)